研究題目


  1. Al単結晶薄膜を用いたMIMトンネルダイオード水素ガスセンサ
  2. 陽極酸化AlO3を用いたMIMトンネル素子
  3. ケルビン法を用いたガスセンサ
  4. 水素で発光する有機EL素子
  5. 片持バリ型水素ガスセンサ
  6. マイクロマシニングによる小型センサの基礎研究
  7. 非弾性トンネル分光装置の作成
  8. ECR水素プラズマ中でのGe薄膜の低温成長
  9. 水素プラズマ処理したGaAs基板表面の評価
  10. 低溶存酸素純粋処理したGaAs基板表面の評価
  11. 超高真空中接触測定法によるGaAs基板表面のその場観察
  12. ハイドロキシアパタイト薄膜に関する基礎研究


題目概要

題目1
水素ガスセンサとして動作するPd-AlO3-Al MIM(Metal Insulator Metal)トンネルダイオードのAl薄膜を単結晶化し、素子特性の向上を目指す
題目2
陽極酸化法により緻密なAlO3絶縁層を形成し、耐熱性に優れたMIM素子を作製する
題目3
ガス吸着による仕事関数の変化をケルビン法により検出する新しいガスセンサの開発
題目4
陰極にPdを用いることにより、水素ガスの存在下でのみ発光する有機ELデバイスの実現
題目5
薄いガラス片にPdを蒸着した片持バリを用いた新型水素ガスセンサの開発
題目6
ホトリソグラフィによりSi基板に小型ガスセンサを作製
題目7
MIM素子の絶縁体-金属界面に付着した不純物の分析を行う装置を作成する
題目8〜9
水素プラズマがGaAs基板等に及ぼす影響を低温成長したGe薄膜の特性、及びGaAs表面の評価を通じて行う
題目9〜11
半導体デバイスの作製に重要な薄膜の表面状態を基板上に滴下した水滴や液滴の接触角測定により行う
題目12
テレビでおなじみの歯磨き粉であるハイドロキシアパタイトの基礎物性の評価を行う


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